小型單靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性?xún)r(jià)比磁控濺射鍍膜設(shè)備，具有小型化、標(biāo)準(zhǔn)化的特點(diǎn)。磁控靶有1英寸、2英寸可以選擇，客戶(hù)可以根據(jù)所鍍基板的大小自主選擇；所配電源為150W直流電源，可用于金屬濺射鍍膜。鍍膜儀配有通氣接口，可以通入保護(hù)性氣體，若客戶(hù)需要通入混合氣體，可以聯(lián)系工作人員自行配置高精度質(zhì)量流量計(jì)以滿(mǎn)足實(shí)驗(yàn)需要。儀器標(biāo)配先進(jìn)的渦輪分子泵組，極限真空可達(dá)1.0E-5Pa，同時(shí)另有其他類(lèi)型的分子泵可供選購(gòu)。

本設(shè)備為單靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備。

小型單靶磁控濺射鍍膜儀適用范圍：

該設(shè)備可用于制備單層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與同類(lèi)設(shè)備相比，經(jīng)過(guò)小型化設(shè)計(jì)，高度集成，體積小巧，可以放置于桌面上使用，是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備。 

小型單靶磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數(shù)：

產(chǎn)品名稱(chēng)	桌面型不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀
產(chǎn)品型號(hào)	CY-MSZ254-I-DC-SS
樣品臺(tái)	外形尺寸	φ100mm
	加熱溫度	≦500℃
	可調(diào)轉(zhuǎn)速	≦20rpm
磁控靶槍	配一支兩英寸磁控靶，靶材尺寸:直徑50.8mm，厚度≦3mm
真空腔體	腔體尺寸	φ254mm X 300mm
	觀(guān)察窗口	全向透明
	腔體材料	304不銹鋼
	開(kāi)啟方式	上蓋拆卸式
真空系統(tǒng)	前級(jí)泵	低噪音雙極旋片泵
	分子泵	低噪音大抽速渦輪分子泵
	真空測(cè)量	復(fù)合真空計(jì)，量程:10-5~105Pa
	抽氣接口	KF16
	抽氣接口	KF40
	排氣接口	KF16
	系統(tǒng)真空	1.0×10-4Pa
	供電電源	AC 220V 50/60Hz
	抽氣速率	分子泵抽速600L/s，前級(jí)泵抽速1.1L/s
電源配置	電源數(shù)量	直流電源一套
	輸出功率	直流電源300W
其他參數(shù)	供電電壓	AC220V,50Hz
	整機(jī)功率	2kW
	整機(jī)尺寸	550mm X 350mm X450mm