- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
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- 真空管式爐
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- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
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- 提拉涂膜機(jī)
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- 電子束，激光鍍膜儀
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- 高溫真空爐
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- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機(jī)
- 真空手套箱
- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗設(shè)備
- 實驗室產(chǎn)品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
技術(shù)參數(shù)：
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項目 |
明細(xì) |
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產(chǎn)品型號 |
CY-MSH300-II-RFDC-SS |
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供電電壓 |
AC220V，50Hz |
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整機(jī)功率 |
3KW |
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極限真空度 |
10-6torr |
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載樣臺參數(shù)
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尺寸 |
φ140mm |
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加熱溫度 |
*高500℃ |
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控溫精度 |
±1℃ |
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轉(zhuǎn)速 |
1-20rpm可調(diào) |
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磁控濺射頭參數(shù)
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數(shù)量 |
2個2”磁控濺射頭 |
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冷卻方式 |
水冷，所需流速10L/min |
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水冷機(jī)規(guī)格 |
16L/min流速的循環(huán)水冷機(jī) |
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真空腔體
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腔體尺寸 |
φ300mm X 300mm H |
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腔體材料 |
不銹鋼 |
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觀察窗口 |
φ100mm |
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開啟方式 |
上頂開式，便于更換靶材 |
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氣體流量控制器 |
4路分別通N2，Ar，O2，空氣；量程均為0-500sccm |
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真空泵 |
配有一套分子泵系統(tǒng)，抽速600L/S |
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膜厚儀 |
石英振動薄膜測厚儀一臺，分辨率0.10 ? |
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濺射電源 |
直流電源一臺，500W，適用于制備金屬膜 射頻電源一臺，300W，適用于非金屬鍍膜 |
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操作方式 |
面板按鈕操作 |
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整機(jī)尺寸 |
1400mm X 750mm X 1300mm |
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整機(jī)重量 |
300kg |
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