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該設備可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備。
鍍膜儀配有兩路高精度質量流量計，客戶若另有需求可以定制至多四路質量流量計的氣路，以滿足復雜的氣體環(huán)境構建需求；儀器標配先進的渦輪分子泵組，極限真空可達1.0E-5Pa，同時另有其他類型的分子泵可供選購。分子泵的氣路由多個電磁閥控制，可以實現在不關泵的情況下打開腔體取出樣品，大大提高了您的工作效率。本產品可以選配一體機工控電腦對系統進行控制，在電腦程序上可以實現真空泵組的控制、濺射電源的控制等絕大多數功能，可以進一步提高您的實驗效率。
三靶磁控濺射鍍膜儀技術參數：
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三靶磁控濺射鍍膜儀(直流電源+射頻電源) |
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產品型號 |
CY-MSH325-III-DCDCRF-SS |
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樣品臺
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尺寸 |
φ140mm |
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控溫精度 |
±1℃ |
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加熱溫度 |
*高500℃ |
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轉速 |
1-20rpm可調 |
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磁控濺射頭
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數量 |
2” x3 （1”,2”可選） |
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水冷機規(guī)格 |
10L/min流速的循環(huán)水冷機 |
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冷卻方式 |
水冷 |
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真空腔體
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腔體尺寸 |
Dia.300mm×300mm |
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觀察窗口 |
φ100mm |
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開啟方式 |
上頂開式 |
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腔體材料 |
不銹鋼 |
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質量流量計 |
2路；量程100sccm；100sccm（可根據客戶需要定制多路氣路） |
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真空系統
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產品型號 |
CY-GZK103-A |
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抽氣接口 |
CF160 |
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分子泵 |
CY-600 |
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排氣接口 |
KF40 |
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前極泵 |
旋片泵 |
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真空測量 |
復合真空計 |
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極限真空 |
1.0E-5Pa |
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供電電源 |
AC;220V 50/60Hz |
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抽氣速率 |
分子泵：600L/S 旋片泵：1.1L/S 綜合抽氣性能：20分鐘真空度可達： 1.0E-3Pa |
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電源配置 |
數量 |
直流電源x2 射頻電源 x1 |
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*大輸出功率 |
直流電源500W 射頻電源500W |
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其他
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供電電壓 |
AC220V,50Hz |
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整機尺寸 |
600mm X 650mm X 1280mm |
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整機重量 |
300kg |
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整機功率 |
4KW |
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極限真空度 |
1.0E-5Pa |
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