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真空噴霧熱解涂膜機是一種自動噴霧熱解設備，帶有不銹鋼腔和熔錫槽加熱器。真空噴霧熱解涂膜機包括三個壓縮氣體噴頭以實現多層薄膜涂層。與常規(guī)SS熱板相比，錫浴加熱器提供在涂覆過程中均勻且穩(wěn)定地加熱到基底。SS304腔室確保清潔健康的氣氛，適合zui苛刻的實驗要求。
詳情介紹：
真空噴霧熱解涂膜機包含一個軟件，用于噴頭移動和分配速率的自動化。 由步進電機控制的正排量泵用于根據需要分配溶液。 噴頭在基板上噴射精細的霧化溶液，其運動由步進電機驅動的線性平臺在X和Y方向控制，以確保均勻涂層。 可以通過改變噴嘴處的壓縮氣體壓力來調節(jié)噴霧模式和速度。
噴霧熱解是通過在加熱的表面上噴射溶液來沉積薄膜的過程，其中組分反應形成化合物。該方法對于氧化物的沉積特別有用，并且長期以來一直是將氧化錫（SnO2）或氧化錫的透明導電體施加到玻璃基板上的制造方法?，F在，這種技術越來越多地用于制備鈣鈦礦薄膜，例如鈣鈦礦太陽能電池。
超聲波熱解噴涂機技術參數：
|
產品名稱 |
真空高溫超聲波熱解噴涂 |
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產品型號 |
CY-TSC-200*200-T |
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控制方式 |
自動觸摸屏控制 |
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樣品尺寸 |
Φ200mm |
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本低真空 |
5.0x10-4pa（分子泵） |
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供電電壓 |
AC220V，50/60Hz |
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*大功率 |
3.5KW |
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超聲波霧化器 |
50KHz 30W |
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液體粘度 |
1-50mPa·s（cP） |
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噴頭行程 |
X-Y軸 *大260mm |
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移動速度 |
0-80mm/s （x軸方向） 0-80mm/s（Y軸方向） |
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加熱襯底基板 |
Φ200mm |
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*高溫度 |
1000℃ |
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控溫方式 |
AI-PID 控溫 |
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排氣裝置 |
該設備設有排氣裝置，以便分解后的氣體可以從排氣口裝置排出 |
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注射方式 |
大流量注射泵 |
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通信協議 |
Windows系統，默認通信端口為RS485或RS232 |
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尺寸 |
780x780x1500 |
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重量 |
300KG |
